1965 সালে, মার্কিন যুক্তরাষ্ট্রের মনসান্টো কোম্পানির হার্জগ এবং ওয়ালশের প্রকৌশলীরা সর্বপ্রথম ইলেক্ট্রোকেমিক্যাল মেকানিক্যাল পলিশিং (ইলেক্ট্রোকেমিক্যাল মেকানিক্যাল পলিশিং, ইসিএমপি) প্রযুক্তির ধারণার প্রস্তাব করেন। এই প্রযুক্তি প্রাথমিকভাবে সামরিক টেলিস্কোপ এবং মাইক্রোস্কোপের মতো উচ্চ-মানের অপটিক্যাল উপাদানগুলির পৃষ্ঠের মসৃণকরণে প্রয়োগ করা হয়েছিল। 1988 সাল থেকে, স্টেইনলেস স্টীল পাইপ কারখানা স্টেইনলেস স্টীল পাইপ তৈরিতে এই প্রযুক্তি প্রয়োগ করেছে, এবং এটি সারা বিশ্বে দ্রুত বিকশিত হয়েছে। ঐতিহ্যগত বিশুদ্ধ যান্ত্রিক বা বিশুদ্ধ ইলেক্ট্রোকেমিক্যাল পলিশিং পদ্ধতি থেকে ভিন্ন, স্টেইনলেস স্টিল টিউব যান্ত্রিক পলিশিংয়ের পরে পৃষ্ঠের মাইক্রোস্কোপিক ক্ষতি এড়াতে ইলেক্ট্রোকেমিক্যাল পলিশিং এবং যান্ত্রিক পলিশিংয়ের ব্যাপক প্রভাব গ্রহণ করে এবং ইলেক্ট্রোকেমিক্যাল পলিশিংয়ের পৃষ্ঠের সমতলতা পলিশিংয়ের সাথে সামঞ্জস্যপূর্ণ। কম লিঙ্গের মতো অসুবিধা। যৌগিক পলিশিং প্রক্রিয়ায়, পালিশ করার জন্য স্টেইনলেস স্টিলের টিউবটি ইলেক্ট্রোলাইটে নিমজ্জিত হয় এবং একটি নির্দিষ্ট ভোল্টেজ পৃষ্ঠে প্রয়োগ করা হয়। ইলেক্ট্রোকেমিক্যাল পলিশিং অগ্রগতির সাথে সাথে পৃষ্ঠের অক্সাইড ফিল্ম ঘন হয় এবং প্রক্রিয়াকরণের গতি ধীর হয়। যাইহোক, পৃষ্ঠের অক্সাইড ফিল্ম এবং জমা অপসারণের জন্য ঘূর্ণমান পলিশিং ডিস্কের ক্রিয়াকলাপের কারণে, পলিশ করা পৃষ্ঠের প্রতিক্রিয়া পণ্যগুলি ক্রমাগত খোসা ছাড়িয়ে যায়, তাজা ইলেক্ট্রোলাইট পুনরায় পূরণ করা হয় এবং পলিশিংয়ের প্রবাহের সাথে প্রতিক্রিয়া পণ্যগুলি সরিয়ে নেওয়া হয়। তরল সদ্য উন্মুক্ত পৃষ্ঠটি আবার একটি বৈদ্যুতিক রাসায়নিক প্রতিক্রিয়ার মধ্য দিয়ে যায় এবং পণ্যটি খোসা ছাড়ানো হয় এবং চক্রাকারে প্রতিফলিত হয়। সাবস্ট্রেট, ঘষিয়া তুলিয়া ফেলিতে সক্ষম কণা এবং তড়িৎ রাসায়নিক বিক্রিয়ার সম্মিলিত ক্রিয়ায় একটি অতি-নির্ভুল পৃষ্ঠ গঠিত হয়। মসৃণকরণ প্রক্রিয়া চলাকালীন, পৃষ্ঠের উপর চাপ প্রয়োগ করা তুলনামূলকভাবে ছোট এবং কাটার হার তুলনামূলকভাবে ধীর। অতএব, স্টেইনলেস স্টীল টিউবের পৃষ্ঠের পলিশিং হার প্রধানত দুটি খুঁটিতে প্রয়োগ করা ভোল্টেজ দ্বারা নির্ধারিত হয়।
স্টেইনলেস স্টীল পাইপের ভিতরের পৃষ্ঠের আয়না পলিশিং উপলব্ধি করার জন্য, জাপান ইনস্টিটিউট অফ ইন্ডাস্ট্রিয়াল টেকনোলজির প্রফেসর কাউচি 1991 সালে ছবিতে দেখানো স্টেইনলেস স্টীল পাইপের অভ্যন্তরীণ পৃষ্ঠের জন্য ইলেক্ট্রোকেমিক্যাল মেকানিক্যাল পলিশিং ডিভাইস তৈরি করেছিলেন। এটিও ছোট এবং মাঝারি আকারের স্টেইনলেস স্টীল পাইপ জিনিসপত্র অভ্যন্তরীণ পৃষ্ঠের জন্য বাজারের মূলধারা। যান্ত্রিক ইলেক্ট্রোকেমিক্যাল পলিশিং প্রক্রিয়া। ডিভাইসটি একটি বিশেষ কাঠামো সহ একটি টুল ইলেক্ট্রোড ব্যবহার করে। ইলাস্টিক উপাদান স্তরের কর্মের অধীনে, নাইলন উপাদান এবং স্টেইনলেস স্টীল টিউবের অভ্যন্তরীণ পৃষ্ঠের সাথে সম্পূর্ণভাবে যোগাযোগ করা হয়, যা যান্ত্রিক পলিশিং প্রক্রিয়াতে প্রয়োজনীয় স্কুইজিং বল প্রদান করে। যাইহোক, যখন পাইপের ভিতরের ব্যাস 10 মিমি থেকে কম হয়, তখন ইলেক্ট্রোলাইট পুনর্নবীকরণে অসুবিধার সমস্যা বিশেষভাবে সুস্পষ্ট হয়ে ওঠে। ছোট-ব্যাসের স্টেইনলেস স্টিল পাইপের ভিতরের পৃষ্ঠের ইলেক্ট্রোকেমিক্যাল যান্ত্রিক পলিশিংয়ের সময় উত্পন্ন প্রচুর বুদবুদ এবং পলি প্রচুর পরিমাণে জমা হয়, যার ফলে পালিশ করা পৃষ্ঠে পিটিং এবং ইলেক্ট্রোলাইটিক ক্ষয়ের মতো ত্রুটি দেখা দেয়।
https://www.xuruimetal.com/
